| mercredi 15 octobre 2025 | |
|
09:00
10:00
11:00
12:00
13:00
14:00
|
9:00 - 9:30 (30min)
Accueil Café
Atrium
›9:30 (20min)
Étude du dopage et de la qualité des couches µ-Si réalisées en ICP-CVD pour la réalisation de TFT.
Olivier de Sagazan › Amphi
9:30 - 9:50 (20min)
Étude du dopage et de la qualité des couches µ-Si réalisées en ICP-CVD pour la réalisation de TFT.
Amphi
Olivier de Sagazan
›9:50 (20min)
Étude des contraintes du SiO2 et Si3N4 en PECVD pour la réalisation de DBR dans l'IR
Christophe Levallois › Amphi
9:50 - 10:10 (20min)
Étude des contraintes du SiO2 et Si3N4 en PECVD pour la réalisation de DBR dans l'IR
Amphi
Christophe Levallois
›10:10 (20min)
Couches minces métalliques : caractérisation, propriétés optiques et applications
Julien Lumeau, Riley Shurvinton, Fabien Lemarchand, Antonin Moreau › Amphi
10:10 - 10:30 (20min)
Couches minces métalliques : caractérisation, propriétés optiques et applications
Amphi
Julien Lumeau, Riley Shurvinton, Fabien Lemarchand, Antonin Moreau
10:30 - 10:55 (25min)
Pause café / Posters
Atrium
10:55 - 12:00 (1h05)
Table ronde
Amphi
12:00 - 14:00 (2h)
Buffet de clôture
Hall
|
| Session | Discours | Logistique | Pause | Sortie |